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【上海,松江区】光刻机的中标通知书

发布时间： 2024-09-18

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上海工程技术大学 - 竞价***B***) 发布时间：***截止时间***：***基本信息：申购主题：光刻机报价***产含税发票类型：增值税专用发票付款方式：电汇，30%预付款，70%验收后支付送货时间：合同签订后45天内送达安装要求：免费上门安装（含材料费）预算： 157,070.0000 人民币我要报价***： ***市/***区/***区/ 供应商资质：备注说明：采购明细：序号设备名称数量/单位预算单价***号规格参数质保及售后服务附件 1 光刻机 1(台) 157070 不指定不指定 1、曝光面积：方片为5英寸5英寸及以下；圆片为φ4英寸及以下。 2、曝光光源：采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯；光源波长为365nm；照明范围≤φ100mm；不均匀性为φ100mm内±3%；可使用的波长为g线、h线、I线的组合；根据用户要求可增加I线滤光片；光照度为0～10毫瓦/厘米2且任意可调(出厂时照明度调在10mw/cm2)；曝光分辨率为1μm。 3、曝光方式：接触式曝光。三种类型分别为硬接触曝光：***道真空来获得高真空接触且真空≤-0.05MPa；软接触曝光：接触压力可将真空降到-0.02MPa～-0.05MPa之间；微力接触曝光：小于软接触且真空≥-0.02MPa。 4、曝光分辨率：硬接触曝光的最小分辨度可达1μm以上。 5、对准系统规格：观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头；通过视屏线连接到显视屏上；单筒显微镜为0.7X～4.5X连续变倍显微镜或1.6X～10X连续变倍；CCD摄像机靶面对角线尺寸为1/3，（6mm）；采用19英寸液晶监视器且其数字放大倍率为57倍；观察系统放大倍数为40～256倍或91～570倍。 6、对准台规格：掩膜样品整体运行范围为±20mm；X与Y调整：±5mm；θ调整：转角≤5°；对准间隙（分离间隙）0～5mm任意可调；对准精度为1μm；套刻精度为1μm。 7、尺寸和重量：尺寸为机体720 mm（长）×720 mm（宽）×882mm（高）；重量≤100Kg。按行业标准提供服务

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